– COFISIS

L'objectif du projet COFiSiS est de mettre au point une technologie bas-coût pour la fabrication de super-réseaux (SRx) sur un substrat de silicium. Au lieu d'utiliser plusieurs centaines de dépôts planaires successifs comme on peut trouver dans la littérature scientifique nous proposons une solution originale de fabrication de SRx verticaux en seulement quelques étapes. Cela consiste à graver de multiples tranchées directement dans le substrat de silicium puis de les remplir avec le matériau adéquat. La principale application visée est le refroidissement localisé dans les systèmes packagés (SiP) et les circuits intégrés. - Obtenir une faible conductivité thermique (CT) dans les SRx est un enjeu majeur pour avoir une conversion thermoélectrique efficace. Aussi deux autres objectifs concomitants sont : 1) la création de modèle pour la prévision de la CT dans les SRx et 2) la mise au point d'outils de caractérisation qui vont permettre la mesure de la CT et du pouvoir thermoélectrique des SRx à l'échelle sub-micrométrique. - Comme première application NXP projette d'utiliser cette technologie pour le refroidissement des LEDs dans leurs SiPs afin d'alléger les contraintes sur le packaging. Le phénomène de conversion étant réversible les SRx peuvent aussi être utilisés comme récupérateur d'énergie à partir de la chaleur dissipée dans les composants électroniques ou comme source d'alimentation pour les nœuds de communications dans un réseau de capteurs autonomes. - - ?